等离子化学气相沉积设备
发布时间: 2011-11-01
 

  单位名称: 上海应用技术学院
 仪器名称: 等离子化学气相沉积设备 设备编号 20082367
仪器英文全称: Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposited Machine
 所属类别: False Pict False Pict False Pict
 
 国别:                             中国 制造厂商 上海总光科技公司 供货商:  
  维修站:   地址:   电话:  
  规格型号: 非标 购置日期: 2008年11月1日
  先进程度: False Pict False Pict
 
原值金额(万元) 56.50 币种: False Pict False Pict False Pict False Pict False Pict False Pict
 
  外币折合成当时的人民币值(万元):  
  主要技术指标:  
本体真空0.00001pa(0~700℃)
  主要附件:  
 
  功能/应用范围:  
材料表面清洗、刻蚀、沉积。
  服务领域:                              False Pict False Pict False Pict False Pict False Pict False Pict False Pict False Pict False Pict False Pict
 
每年可供对外服务 300 机时 上年对外服务:   机时 接待时间: 周一~周五
收费标准:每样品  300 每小时占用费 100
所在部门:    材料工程学院 部门联系人: 贾润萍 联系电话: 64942815
操作人员: 1  
姓名 出生年月 学历 专业 职称 技术等级  有何擅长
贾润萍 1974年6月 博士 材料学 副教授   纳米材料
             
             
技术特色:  
 

 

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