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等离子化学气相沉积设备

发布日期：2011-09-20

(16)等离子化学气相沉积设备

单位名称：上海应用技术学院
仪器名称:等离子化学气相沉积设备设备编号20082367
仪器英文全称：Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposited Machine
所属类别：
　
国别： 中国制造厂商上海总光科技公司供货商：
维修站：　地址：　电话：　
规格型号：非标购置日期：2008年11月1日
先进程度：
　
原值金额(万元)：56.50币种：
　
外币折合成当时的人民币值（万元）：　
主要技术指标：
本体真空0.00001pa（0～700℃）
主要附件：
　
功能/应用范围：
材料表面清洗、刻蚀、沉积。
服务领域：
　
每年可供对外服务300机时上年对外服务:　机时接待时间:周一～周五
收费标准：每样品 300元每小时占用费100元
所在部门： 材料工程学院部门联系人：贾润萍联系电话：64942815
操作人员：共1人
姓名出生年月学历专业职称技术等级 有何擅长
贾润萍1974年6月博士材料学副教授　纳米材料
　　　　　　　
　　　　　　　
技术特色：
　


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